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厭氧烘箱在PI亞胺化工藝的應用
來源: | 作者:雋思半導體設備部 | 發布時間: 2022-10-20 | 889 次瀏覽 | 分享到:

厭氧烘箱應用背景

     半導體功率整流器件在電子電力設備中廣泛應用,功率整流器件在電路中的電氣性能全部依靠其中的芯片來實現。芯片的穩定性和可靠性主要取決于芯片的鈍化保護質量。因此,提高芯片的鈍化保護質量是提高芯片的穩定性和可靠性的關鍵所在。用聚酰亞胺鈍化保護整流芯片生產的產品工藝成本降低了 10%,每年廢水排水量減少了 60% 。

厭氧烘箱應用工藝固化

     將聚酰亞胺酸均勻涂敷在硅片的P+面,通過烘烤使涂敷在P+面的聚酰亞胺酸形成聚酰亞胺層,保護PN結,控制烘烤溫度。亞胺化反應一般在300~400℃條件下進行,反應產物之一的水被脫除,從而提高了酰亞胺化的反應速率,伴隨這一脫水過程,反應體系中的有機溶劑、未反應單體以及其他低沸點有機反應組分,如中間產物和雜質等,也會一同被蒸發脫除。

厭氧烘箱技術性能

溫度范圍: RT ~450℃;
氧含量:20ppm

規格尺寸:自定義

壓力:負壓/常壓,可選


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