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工信部官宣!我國正式突破7nm光刻技術
來源: | 作者:上海雋思半導體設備部 | 發布時間: 2024-09-20 | 913 次瀏覽 | 分享到:

      近日,  工業和信息化部正式發布了《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》(以下簡稱《指導目錄》),這一舉措旨在推動我國重大技術裝備的創新發展和推廣應用,同時加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同效應。

值得注意的是,《指導目錄》中提到的氟化氬光刻機,代表了當前全球半導體制造領域的尖端技術。光刻機被譽為"芯片之母",是集成電路制造中最為關鍵的設備之一。能夠生產出如此高精度的光刻機,意味著我國在半導體制造裝備領域已經取得了重大突破,為未來實現高端芯片的自主可控奠定了堅實基礎。

這一目錄的發布,不僅僅是一份簡單的技術指標清單,更體現了我國在高端制造業領域的戰略布局。通過鼓勵和支持首臺(套)重大技術裝備的研發和應用,我國旨在加速關鍵核心技術的突破,推動產業鏈向高端化、智能化方向發展,最終實現制造強國的宏偉目標。

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