就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產品，
做到極致認真
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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HMDS預處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
新 聞 動 態(tài)
NEWS
集成電路的制造包括近800道物理、化學工序，主要有5個制造階段：晶圓（Wafer）的制備、芯片制造、芯片檢測、芯片封裝和驗收測試。
其中半導體芯片生產主要涉及IC設計、IC制造、IC封測三大環(huán)節(jié)。
核心IC制造環(huán)節(jié)是將芯片電路圖從掩膜轉移至硅片上，并實現(xiàn)對應功能的過程，包括光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。
光刻的成本約占整個芯片制造成本的1/3，耗費時間約占整個芯片工藝的40-60%，是大規(guī)模集成電路制造過程中最復雜、昂貴和關鍵的工藝。
一般的光刻工藝要經歷八道工序：氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、對準曝光、后烘 、顯影、堅膜烘焙和檢測。
氣相成底膜工藝：
首先用六甲基二硅胺烷在硅片上形成底膜，該底膜使硅片表面疏離水分子，同時增強對光刻膠的結合力。
氣相成底膜設備，六甲基二硅胺烷（HMDS）烘箱
HMDS烘箱將六甲基二硅胺烷HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統(tǒng)加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。
氣相成底膜設備，六甲基二硅胺烷（HMDS）烘箱特點：
HMDS藥液泄漏報警提示功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
藥液管道預熱功能
程序鎖定保護等功能
氣相成底膜設備，六甲基二硅胺烷（HMDS）烘箱性能：
1.尺寸（深*寬*高）
內腔尺寸：450×450×450（mm）（可定制）
外形尺寸：750×1120×1650（mm）
2. 材質：外箱采用優(yōu)質冷軋板噴塑，內箱采用 316L 醫(yī)用級不銹鋼
3.溫度范圍：RT+50-200℃
4.溫度分辨率：0.1℃
5.溫度波動度：≤±0.5
6 真空度：≤133pa（1torr）
7.電源及總功率：AC 220V±10% / 50HZ，總功率約 3.2KW
8.控制儀表：人機界面，一鍵運行
9.擱板層數(shù)：2 層
10.HMDS控制：可控制HMDS 藥液添加量
11.真空泵：無油渦旋真空泵
