就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
-
智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
-
氮?dú)夂嫦洌艹涞嫦?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
最新消息
熱搜：HMDS烘箱 無(wú)塵烤箱 無(wú)氧烤箱
新 聞 動(dòng) 態(tài)
NEWS
芯片制造的關(guān)鍵工藝
來(lái)源:
|
作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部
|
發(fā)布時(shí)間: 2020-06-01
|
3223 次瀏覽
|
分享到:
芯片制造的關(guān)鍵工藝
沉積：制造芯片的第一步，通常是將材料薄膜沉積到晶圓上以及HMDS沉積（HMDS沉積烘箱）。材料可以是導(dǎo)體、絕緣體或半導(dǎo)體。光刻膠涂覆：進(jìn)行光刻前，首先要在晶圓上涂覆光敏材料“光刻膠”或“光阻”，然后將晶圓放入光刻機(jī)。
曝光：在掩模版上制作需要印刷的圖案藍(lán)圖。晶圓放入光刻機(jī)后，光束會(huì)通過(guò)掩模版投射到晶圓上。光刻機(jī)內(nèi)的光學(xué)元件將圖案縮小并聚焦到光刻膠涂層上。在光束的照射下，光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，光罩上的圖案由此印刻到光刻膠涂層。
計(jì)算光刻：光刻期間產(chǎn)生的物理、化學(xué)效應(yīng)可能造成圖案形變，因此需要事先對(duì)掩模版上的圖案進(jìn)行調(diào)整，確保最終光刻圖案的準(zhǔn)確。ASML將現(xiàn)有光刻數(shù)據(jù)及圓晶測(cè)試數(shù)據(jù)整合，制作算法模型，精確調(diào)整圖案。
烘烤與顯影：晶圓離開(kāi)光刻機(jī)后，要進(jìn)行烘烤（無(wú)塵烘箱）及顯影，使光刻的圖案永久固定。洗去多余光刻膠，部分涂層留出空白部分。
刻蝕：顯影完成后，使用氣體等材料去除多余的空白部分，形成3D電路圖案。
計(jì)量和檢驗(yàn)：芯片生產(chǎn)過(guò)程中，始終對(duì)晶圓進(jìn)行計(jì)量和檢驗(yàn)，確保沒(méi)有誤差。檢測(cè)結(jié)果反饋至光刻系統(tǒng)，進(jìn)一步優(yōu)化、調(diào)整設(shè)備。
離子注入：在去除剩余的光刻膠之前，可以用正離子或負(fù)離子轟擊晶圓，對(duì)部分圖案的半導(dǎo)體特性進(jìn)行調(diào)整。
視需要重復(fù)制程步驟：從薄膜沉積到去除光刻膠，整個(gè)流程為晶圓片覆蓋上一層圖案。而要在晶圓片上形成集成電路，完成芯片制作，這一流程需要不斷重復(fù)，可多達(dá)100次。
封裝芯片：最后一步，切割晶圓，獲得單個(gè)芯片，封裝烘烤（充氮烘箱）、封裝在保護(hù)殼中。這樣，成品芯片就可以用來(lái)生產(chǎn)電視、平板電腦或者其他數(shù)字設(shè)備了！
MUNE
>網(wǎng)站首頁(yè) >公司簡(jiǎn)介 >產(chǎn)品中心 >新聞動(dòng)態(tài)
>幫助文檔 >在線留言 >聯(lián)系我們
上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司 ? 版權(quán)所有 滬ICP備16022591號(hào)-3
Copyright ? 2012-2018 junsicn.com All Rights Reserved.
技術(shù)支持：上海雋思儀器
CONTACT US
tel：18016234441
EMALL：junsish@163.com
